<?xml version='1.0' encoding='UTF-8'?>
<ArticleSet>
  <Article>
    <Journal>
      <PublisherName>International Publishing House of Thought Umbrella</PublisherName>
      <PublisherNameVernacular>موسسه انتشارات بین المللی چتر اندیشه</PublisherNameVernacular>
      <JournalTitle>Journal of Engineering Management and Digital Transformation</JournalTitle>
      <JournalTitleVernacular>فصلنامه مدیریت مهندسی و تحول دیجیتال</JournalTitleVernacular>
      <Issn></Issn>
      <Volume>2</Volume>
      <Issue>1</Issue>
      <PubDate PubStatus="epublish">
        <Year></Year>
        <Month></Month>
        <Day></Day>
      </PubDate>
    </Journal>

    <ArticleTitle>بررسی خواص ساختاری و حسگری لایه¬های نازک اکسید روی نسبت به دمای زیر لایه تهیه شده به روش APCVD</ArticleTitle>
    <VernacularTitle>بررسی خواص ساختاری و حسگری لایه های نازک اکسید روی نسبت به دمای زیر لایه تهیه شده به روش APCVD</VernacularTitle>

    <FirstPage>0</FirstPage>
    <LastPage>0</LastPage>
    <ELocationID EIdType="doi"></ELocationID>
    <Language>FA</Language>

    <AuthorList>
      <Author>
        <FirstName>b</FirstName>
        <LastName></LastName>
        <Affiliation>گروه فیزیک دانشکده علوم پایه دانشگاه گیلان، رشت</Affiliation>
        <VernacularFirstName>بتول</VernacularFirstName>
        <VernacularLastName>زرتاج اصلی</VernacularLastName>
        <VernacularAffiliation>گروه فیزیک دانشکده علوم پایه دانشگاه گیلان، رشت</VernacularAffiliation>
      </Author>
      <Author>
        <FirstName>f</FirstName>
        <LastName></LastName>
        <Affiliation>گروه فیزیک دانشکده علوم پایه دانشگاه گیلان، رشت</Affiliation>
        <VernacularFirstName>سید</VernacularFirstName>
        <VernacularLastName>محمد روضاتی</VernacularLastName>
        <VernacularAffiliation>گروه فیزیک دانشکده علوم پایه دانشگاه گیلان، رشت</VernacularAffiliation>
      </Author>
      <Author>
        <FirstName>f</FirstName>
        <LastName></LastName>
        <Affiliation>گروه فیزیک دانشکده علوم پایه دانشگاه گیلان، رشت</Affiliation>
        <VernacularFirstName>فاطمه</VernacularFirstName>
        <VernacularLastName>مقیمی</VernacularLastName>
        <VernacularAffiliation>گروه فیزیک دانشکده علوم پایه دانشگاه گیلان، رشت</VernacularAffiliation>
      </Author>
    </AuthorList>

    <PublicationType></PublicationType>

    <History>
      <PubDate PubStatus="received">
        <Year></Year>
        <Month></Month>
        <Day></Day>
      </PubDate>
    </History>

    <Abstract>در این تحقیق لایه¬های نازک اکسید روی به با استفاده از روش لایه نشانی نهشت بخار شیمیایی در اتمسفر بر روی زیرلایه¬های شیشه ای در دماهای 450 تا 550 درجه سانتیگراد به منظور کاربرد در حسگر گاز اتانول نهشته گردیدند. دیگر شرایط لایه نشانی برای تمامی نمونه¬ها ثابت بوده است که عبارتند از : زمان لایه شانی که 2 دقیقه و میزان ماده که 1/0 گرم بوده است. الگوی پراش پرتو ایکس نمونه¬ها نشان از شدت گرفتن جهتگیری (100) با افزایش دمای زیر لایه دارد. بررسی تصاویر میکروسکوپ الکترونی روبشی گسیل میدانی نشان می¬دهد که افزایش دمای زیر لایه ابتدا سبب بزرگ شدن دانه¬ها می شوند و این افزایش از دمای زیر لایه 525 درجه¬ی سانتیگراد متوقف شده و دانه¬ها شروع به کوچک شدن می¬کنند. همچنین میزان حساسیت نمونه¬ها به ازایppm2500 از گاز اتانول در دماهای 125 تا 410 درجه سانتیگراد مورد برسی قرار گرفت و بیشترین میزان حساسیت متعلق با نمونه¬ی تهیه شده در دمای لایه نشانی 450 درجه¬ی سانتیگراد با دمای کار 345 درجه¬سانتیگراد است.</Abstract>
    <OtherAbstract Language="FA">در این تحقیق لایه¬های نازک اکسید روی به با استفاده از روش لایه نشانی نهشت بخار شیمیایی در اتمسفر بر روی زیرلایه¬های شیشه ای در دماهای 450 تا 550 درجه سانتیگراد به منظور کاربرد در حسگر گاز اتانول نهشته گردیدند. دیگر شرایط لایه نشانی برای تمامی نمونه¬ها ثابت بوده است که عبارتند از : زمان لایه شانی که 2 دقیقه و میزان ماده که 1/0 گرم بوده است. الگوی پراش پرتو ایکس نمونه¬ها نشان از شدت گرفتن جهتگیری (100) با افزایش دمای زیر لایه دارد. بررسی تصاویر میکروسکوپ الکترونی روبشی گسیل میدانی نشان می¬دهد که افزایش دمای زیر لایه ابتدا سبب بزرگ شدن دانه¬ها می شوند و این افزایش از دمای زیر لایه 525 درجه¬ی سانتیگراد متوقف شده و دانه¬ها شروع به کوچک شدن می¬کنند. همچنین میزان حساسیت نمونه¬ها به ازایppm2500 از گاز اتانول در دماهای 125 تا 410 درجه سانتیگراد مورد برسی قرار گرفت و بیشترین میزان حساسیت متعلق با نمونه¬ی تهیه شده در دمای لایه نشانی 450 درجه¬ی سانتیگراد با دمای کار 345 درجه¬سانتیگراد است.</OtherAbstract>

    <ObjectList>
      <Object Type="keyword"><Param Name="value">روی اکسید</Param></Object>
      <Object Type="keyword"><Param Name="value">لایه نازک</Param></Object>
      <Object Type="keyword"><Param Name="value">نهشت بخار شیمیای</Param></Object>
      <Object Type="keyword"><Param Name="value">حسگر گازی</Param></Object>
      <Object Type="keyword"><Param Name="value">دمای کار</Param></Object>
      <Object Type="keyword"><Param Name="value">اتانول</Param></Object>
      <Object Type="keyword"><Param Name="value_vernacular">روی اکسید</Param></Object>
      <Object Type="keyword"><Param Name="value_vernacular">لایه نازک</Param></Object>
      <Object Type="keyword"><Param Name="value_vernacular">نهشت بخار شیمیای</Param></Object>
      <Object Type="keyword"><Param Name="value_vernacular">حسگر گازی</Param></Object>
      <Object Type="keyword"><Param Name="value_vernacular">دمای کار</Param></Object>
      <Object Type="keyword"><Param Name="value_vernacular">اتانول</Param></Object>
    </ObjectList>

    <ArchiveCopySource DocType="pdf">https://jonarbset.ir/downloadfilepdf/13139</ArchiveCopySource>
  </Article>
</ArticleSet>